成都贵恒科技有限责任公司

《贵 恒》XRF高 频 熔 样 炉一、设备结构和工作原理XRF高频熔样机是由加热系统、控制系统、机械系统、水冷系统四部分组成，各系统工作原理简述如下：1、高频加热系统：电网电源220V经整流滤波后，变成310V直流电源，经过大功率场效应管（MOS管）的高速开关，将直流电源变成30-80KHZ的高频电流，又经过LC串联谐振电路中的输出变压器隔离，变压后变成低电压大电流的高频电流输送到按一定形状制造成的感应器上，通过高频率大电流形成的交变磁场对铂黄金坩埚进行加热。2、控制系统： 触摸屏显示和操作，采用PLC控制系统，K型系列有10种程序供用户储存； C型系列有15种程序供用户储存。用户只需按试样的熔制要求设置好：电流和时间（氧化—升温—恒温—转动摇摆—成型）的几个步骤，再轻轻一按启动（屏幕内置键）即可完成一次样品的制样过程。若X荧光仪按此程序做好了曲线就可将此程序储存，以备随时调用。3、机械系统： a、手动浇铸型：机械系统是在一定的半径内由水平360°快速转动装置和＜±45 °左右摇摆装置组成。工作时两个装置同时动作，对铂黄金坩埚内的熔融物形成 三维立体式搅拌,（有别于其他厂商传统设计）。其目的是荡净坩埚壁上的熔珠， 排出熔体中的气泡，使试样在熔剂中分布更均匀，搅拌的时间更短但效果更好。 b、自动浇铸型：是机械系统和控制系统配合设计，即坩埚的搅拌方式是《离心 变速转动》。坩埚从停止-离心慢速转动-离心快速转动-离心慢速转动-停止，这 样不断的变化，使样品与熔剂混匀，其搅拌同样达到时间更短效果更好，此搅拌 方式也是我公司特有，并已申报国家实用新型专利。4、冷却部分： 由水泵、水箱和排风扇组成，冷却水系统要求进水温度：5-40℃；水质：PH 值7-8.5；硬度不大于60mg/L；导电率小于500VA/mm3；进水压力：1×105 Pa — 3×105Pa，通过水冷却确保设备内电器元件正常工作。二、<贵恒牌》XRF高频熔样炉特点：1、手工浇铸型高频熔样炉：机械部分的设计是模拟人工摇晃搅拌，使样品更加均匀重现性更好，比同类高频设备的熔样时间更短。（此摇晃搅拌设计已获国家实用新型专利,专利号为：ZL2.7）。